气体的监测及分析

气体的监测和分析是检查气体质量、确保用气点或用气设备能所用高纯气体的重要手段，也是保证安全生产的重要措施。高纯气体的监测与分析，只有采用先进的分析方法和精密的分析仪器，才能获得精确的分析数据。
 
气体监测和分析的重要性
 
随着晶片的几何结构缩小，集成电路集成度的不断提高，即使有极微量的气态杂质的沾污和极小的尘埃污染，也会给生产带来严重的破坏性。对气体纯度要求非常严格的半导体工艺，对无污染生产环境提出更高的要求。如果能保证在整个生产过程中所用气体具有高纯或超纯的水平，不仅能生产出高质量的器件产品，而且也能提高成品率。
 
在器件生产工艺中，要保证气体高纯或超净，除采取净化提纯和有效的防杂质沾污的措施之外，还必须对工艺气体进行严格的监测分析。
  
众所周知，气体从气站到使用点，要流过长长的管道、接触许多配件、控制装置和净化设备等， 因受众多因素的影响，住往由于管理不严、操作不当、气体使用不合理，或气路长期运转，其材质、配件和装置等，局部可能发生泄漏或渗透，均可能造成高纯气体的污染。因此，工艺气体只管使用，不进行监测和分析，就不能保证生产工艺上时时用上高纯气体。
   
通过实践认识到工艺气体监测的重要性， 已引起了高度重视，加强了这方面的研究工作，并取得了良好的效果。在国外，决大多数器体生产厂，尤其是超大规模和持大规模集成电路生产公司， 非常重视工艺气体的监测和分析，为提高器件产品性能和成品率，采取了种种措施，要确保工艺用气质量。不但将工艺气体监测列入生产过程中的重要一环，而且设有专职人员从祟这项工作，负责工艺气体的监督、检测和分析。大规模和超大规模集成电路生产工艺中，所用的气体为超纯、超净， 某些杂质必须保持或控制在百万分之一，甚至降到十亿分之几的水平上，对于这些极微量杂质的检测不仅要求分析技术高，而且还需要高精度的分析仪器。虽然投资高，但能得到精确的分析数据， 保证工艺气体质量，以达到提高器件成品率，还是值得的。因此， 工艺气体的监督、幢测和分析是非常重要的，也是十分必要的，所以这项工作只能加强，不可削弱，更不能忽视。